二、主要用途

1. 金属铪的制备（冶金工业）

• 金属热还原法：以钙（Ca）或镁（Mg）为还原剂，在高温下还原 HfF?生成金属铪（Hf），反应式如下：HfF4+2Ca高温Hf+2CaF2
  金属铪具有优异的耐高温性、耐腐蚀性和中子吸收能力，被广泛用于：
  • 核工业：作为核反应堆控制棒材料（吸收中子）、核燃料包壳材料（耐辐射腐蚀）。
  • 航空航天：制造高温合金（如喷气发动机部件）、火箭喷嘴等。
  • 电子器件：用于半导体制造中的溅射靶材、高纯度合金镀层。

2. 半导体与电子工业

• CVD/PVD 前驱体：四氟化铪可作为化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD）的原料，用于制备：
  • 高介电常数（High-κ）材料：如 HfO?薄膜，替代传统 SiO?用于先进集成电路的栅极电介质，提高芯片性能（降低漏电流、提升集成度）。
  • 金属铪薄膜：作为阻挡层或扩散屏障，用于半导体器件的互连结构。
• 等离子体蚀刻：在芯片制造的蚀刻工艺中，HfF?的挥发性衍生物（如 HfF?2?）可作为蚀刻气体的组分，用于精确刻蚀金属或氧化物层。

3. 光学与玻璃工业

• 特种玻璃添加剂：少量 HfF?可用于制备高折射率、低色散的光学玻璃，用于相机镜头、激光器件等精密光学仪器。
• 防反射涂层：通过 CVD 技术在玻璃表面沉积 HfO?薄膜，降低光反射率，提升透光率（如太阳能电池板、显示屏玻璃）。

4. 陶瓷与催化领域

• 结构陶瓷：与其他金属氟化物（如 ZrF?）复合，可制备耐高温、耐磨的陶瓷材料，用于机械密封件、切削工具等。
• 催化剂载体：HfF?的衍生物（如 HfO?）可作为催化剂载体，用于有机合成反应（如异构化、加氢反应），利用其表面酸性或氧化还原特性提升催化效率。